紫外光刻機(jī)是制造集成電路中重要的設(shè)備，特別是現(xiàn)在市面上大部分的芯片都是屬于電子芯片，當(dāng)電子芯片的工藝小于一定的尺寸的時候，就必須依靠光刻機(jī)在制作芯片，也就是說如果沒有光刻機(jī)就沒有辦法制造出頂級的芯片，比如市面上7nm芯片、5nm芯片等都不可能造出。而芯片在生活中是重要的，比如電腦、手機(jī)等電子產(chǎn)品都少不了。
該光刻機(jī)可廣泛用于MEMS和光電子，例如LED生產(chǎn)。它經(jīng)過**設(shè)計，方便處理各種非標(biāo)準(zhǔn)基片、例如混合、高頻元件和易碎的III-V族材料，包括砷化鎵和磷化銦。而且該設(shè)備可通過選配升級套件，實現(xiàn)紫外納米壓印光刻。它具有以下亮點：高分辨率掩模對準(zhǔn)光刻，特征尺寸優(yōu)于0.5微米、裝配SUSS的單視場顯微鏡或分視場顯微鏡，實現(xiàn)快速準(zhǔn)確對準(zhǔn)、針對厚膠工藝進(jìn)行優(yōu)化的高分辨光學(xué)系統(tǒng)、可選配通用光學(xué)器件，在不同波長間進(jìn)行快速切換等。
隨著電子業(yè)的飛速發(fā)展,對作為電子元器件基礎(chǔ)的印制板的需求量及其加工精度的要求越來越高。紫外線光刻機(jī)是印制板制造工藝中的重要設(shè)備。傳統(tǒng)光刻機(jī)的玻璃-邁拉曬架在生產(chǎn)過程中需要人工趕氣,邁拉膜需要經(jīng)常更換。由于冷卻系統(tǒng)過于臃腫,使得其生產(chǎn)成本高、效率低,已不能滿足PC B 生產(chǎn)的需要。在實驗基礎(chǔ)上設(shè)計了雙玻璃曬架光刻機(jī)，改進(jìn)了其主要組成部分,包括曬架系統(tǒng)、光路系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)以及電氣和控制系統(tǒng)的整體設(shè)計。
在計算機(jī)的控制下，利用聚焦電子束對有機(jī)聚合物（通常稱為電子抗蝕劑或光刻膠）進(jìn)行曝光，受電子束輻照后的光刻膠，其物理化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化，在一定的溶劑中形成良溶或非良溶區(qū)域，從而在抗蝕劑上形成精細(xì)圖形。
紫外光刻機(jī)的原理是在已經(jīng)切割好的晶圓（通常是多晶硅）上覆蓋一層具有高度光敏感性光刻膠，再用光線（一般是紫外光、深紫外光、極紫外光）透過掩模照射在晶圓表面，被紫外線照射到的光刻膠會發(fā)生反應(yīng)。此后用特定溶劑洗去被照射/未被照射的光刻膠，就實現(xiàn)了電路圖從掩模到晶片的轉(zhuǎn)移。簡單來說，就用紫外線把多層電路圖雕刻在晶圓上，而在這過程中就必然要用到光刻機(jī)。
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